Technology

把光谱成像能力压缩进更高集成度的芯片架构

光芯智谱围绕物理型成像、计算型成像与半导体兼容工艺建立技术体系,目标是在体积、成本和性能之间取得更优平衡。

1500Hz 最高帧频能力方向
10nm 重构分辨率目标级别
70% 能量利用率提升方向

Core Stack

三层能力协同

Pixel Filter Array

物理型成像技术

采用像元级薄膜滤光片、超表面与衍射结构实现分光,兼顾空间分辨率和成像效率,适合阵列化、高速化集成。

编码滤光 压缩采样 算法重建 Spectral Recovery

计算型成像技术

通过编码滤光结构与算法重建协同工作,在单探测器架构下恢复多波段信息,扩展光谱维度与能量利用率。

Wafer Filter Sensor Process Compatible

半导体兼容工艺

按照标准产线约束设计工艺链条,提高对准精度、工艺一致性与量产导入效率,降低从研发到转产的摩擦。

Comparison

面向不同场景灵活选型

路线 优势 适用方向
物理型成像 结构直观、响应快、适合高速采集 工业在线检测、机器视觉
计算型成像 灵活度高、覆盖更宽波段、系统可压缩 医疗科研、便携式检测设备
混合架构 兼顾光谱精度与系统效率 多场景定制化系统开发

Roadmap

两条技术路线都在向更高谱段数演进

窄带分光型

第一代

像元 FP 分光滤光片加探测器,已验证基本成像能力,但受制于粘贴可靠性与串扰问题。

窄带分光型

第二代

探测器直接集成像元 FP 分光结构,提升结合性和量产导入能力。

窄带分光型

第三代

在研 MEMS-FPI 结构,目标是不牺牲空间分辨率并实现可调谐窄带高光谱成像。

宽带计算型

第一代

机器学习结合像元镀膜,形成宽波段高信噪比的片上高光谱成像芯片。

宽带计算型

第二代

在研机器学习加像元级 MEMS 路线,目标超过 1000 谱并进一步释放空间分辨率。

Manufacturing

工艺路线围绕可落地量产设计

不只追求实验室指标,更强调与标准制造平台的兼容性、批间一致性以及后续封装与系统集成的可操作性。

加工精度 围绕像元级结构和亚波长结构进行差异化设计与制造取舍。
环境适应性 优先考虑长期稳定、耐受性强、适合工程部署的材料和结构路线。
成本与导入 兼顾多次镀膜、光刻、刻蚀复杂度和后续大批量生产能力。